拋光機的拋（pāo）光速率低解決這個矛盾的（de）最好（hǎo）的辦法就（jiù）是把拋光分為兩個階段進行。

　　粗拋目的是去除磨（mó）光（guāng）損傷層，這一階段應具有最大的拋光速率（lǜ），粗拋形成（chéng）的表層（céng）損傷是次要的考慮，不過也應當盡可能小;其次是（shì）精拋(或（huò）稱終拋（pāo）)，其目的是去除粗拋產（chǎn）生的（de）表層損傷，使拋光損傷減到最小（xiǎo）。拋光機拋光時（shí），試樣磨麵與拋光盤（pán）應絕對平行（háng）並均勻（yún）地（dì）輕壓（yā）在拋光盤上，注意（yì）防止試樣飛出和因壓力太大而產（chǎn）生新磨痕。

　　同時，還應使（shǐ）試樣自轉並沿轉盤半徑方向來回移動，以避免拋光織物局部磨損太（tài）快在拋光過程（chéng）中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度（dù）。濕度（dù）太大會減弱拋光（guāng）的磨痕作用，使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬夾（jiá）雜物及鑄鐵中石墨相產生（shēng）“曳尾”現象;濕（shī）度太小時，由於摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作用減小，磨麵失去光（guāng）澤（zé），甚至出現黑斑，輕合金則會拋傷表麵。

　　當（dāng）然，我們為了達到（dào）粗拋的目的，要求轉盤轉速較低，最（zuì）好不要超過600r/min;拋光時間應當比去掉劃痕所需的時間長些，因為還要去掉變形層。粗拋後磨麵光滑，但（dàn）黯淡無（wú）光，在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕，有待精拋消除。