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磨削之研磨拋光、磨粒流與珩磨的區別

訪問(wèn)量 : 0    編輯時間 : 2023-09-22    來源: 去毛刺(cì)機

磨削之研磨拋光、磨粒流與珩磨的區別


1、磨粒流工藝

磨料(liào)流加工(gōng)(AFM)工藝是理(lǐ)想的拋光和去毛刺方法,特別(bié)是(shì)對於複雜(zá)的內部形狀和有挑戰的表麵加工要求。


磨粒流加工技術(Abrasive Flow Machining,AFM)又稱為擠壓珩磨技術,起源於20世紀60年代,是一種區別於傳統機械加工的光整加工方法。利(lì)用具有一定黏性的流動磨料介質,在一定壓力作(zuò)用下,通過引導流過工件的待加工表麵,磨料對材料形成(chéng)擠壓並進行微量去(qù)除,可以達到去(qù)除(chú)毛刺飛邊、孔口倒(dǎo)圓等加工效(xiào)果(guǒ),重要的是可以降低待(dài)加(jiā)工表麵的粗糙度值,實現光(guāng)整(zhěng)加工目的。得益於塑性極強的磨料,這種加工技術幾乎可以對任意(yì)形狀的表麵進行光整加工,尤其是針對難以加工的複(fù)雜內(nèi)腔表麵,能取得較好的光整加工(gōng)效果,近年來這(zhè)種技術在航(háng)空、航天、汽車和模(mó)具等行業得到了廣泛應用。

1—活(huó)塞 2—工件 3—夾具 4—缸體

1.1工藝係統

磨粒(lì)流,簡(jiǎn)單來說,就是一種通過半流體介質進行拋光去(qù)毛刺的工藝,主要麵(miàn)向內孔、以及(jí)不規則形狀的中小型(xíng)工件(jiàn)。磨粒流拋光工藝(yì)包(bāo)含三(sān)個(gè)核心要素(sù),即軟磨料、夾(jiá)具與PLC係統:

軟磨料

  軟磨(mó)料是由非常細(xì)小的硬質(zhì)顆粒,混合相關液體(tǐ),調製而成的半流(liú)體狀態的介質,磨(mó)料顆粒的大小(xiǎo)、硬度,以(yǐ)及半流體的粘稠度、遇熱後是否會黏貼工件,是影響拋光(guāng)去毛刺質量的關鍵。磨料通常選材有碳化矽、白剛玉、金剛石等,根據各(gè)自(zì)的硬度,對應(yīng)不(bú)同材(cái)質的工件。例(lì)如鋁製品、銅(tóng)製品工件,選用碳化矽磨料即可。而硬度較(jiào)高的鎢鋼、合金鋼,選(xuǎn)用白(bái)剛玉或金剛石更為合適。

工裝夾具(jù)

選用夾具的原因是,為了提高工件拋(pāo)光去毛刺的效率。一來,一款夾具上可以同時夾(jiá)持多個(gè)工件,一次(cì)性加工。二來,使用工裝(zhuāng)夾具(jù)後(hòu),退模換工件時,不必每次校準,大大減少了停機時間。

工裝夾(jiá)具設計的(de)關鍵在(zài)於(yú),在提升效率的(de)前提下,如何保持工件均勻受力(lì),而不致於使工件壓傷。

PLC係統

  PLC係統是整個磨粒流設備的控製中心,PLC係統設計地簡潔(jié)、規範,既可以讓操作(zuò)人員(yuán)更快上手,減(jiǎn)少培訓磨合(hé)時間,又可(kě)以減少設備故障率,延長設備使用壽命。

1.2磨(mó)粒流特點

(一)可(kě)加工內腔複雜的零件

(二(èr))均勻性和重複性(xìng)好

(三)可實現自動化生產

(四)生產效率高

(五)可控性及(jí)可預測性好

(六)加工表麵質好

1、研磨

研磨是將研磨工具(以下簡稱研具)表麵嵌人磨料或敷(fū)塗磨料並添(tiān)加潤滑劑,在一定的壓力作用下,使工件和研具接觸並做相對運動(dòng),通過磨料作用,從工件表麵切去一層極薄的切屑,使工件具有精確的尺寸、準確的幾何形狀和很高的表麵粗糙度,這(zhè)種對工件表麵(miàn)進行最終精密加工的方法,叫(jiào)做(zuò)研磨(mó)。

1.1研磨的種類


濕研將液狀研磨劑塗敷或連續加注於研具(jù)表麵,使磨料(W14~W5)在被加工的產品與研(yán)具間不斷地滑動(dòng)與滾動,從而實現對工件的切(qiē)削。濕研應用較多。

幹(gàn)研將磨料(W3.5~W0.5)均勻(yún)地壓嵌在研(yán)具表層上,研磨時(shí)需在研具表麵塗以少量的潤滑劑。幹(gàn)研多(duō)用於精研。

半幹研所用研磨劑為糊狀的研磨膏,粗、精研均可采用。

1.2研(yán)磨的特點及應用範圍

設備簡單,精度要求高。


加工質量可靠。可獲得很高的精度和很低的Ra值。但一般不能提高(gāo)加工麵與其(qí)他表麵之間的位置精度。

可加工各種鋼、淬硬鋼、鑄鐵、銅鋁及其合金、硬質合金、陶瓷、玻璃及某些塑料製品等。

研磨(mó)廣泛用於單件小批生產中加工各種高精度型麵,並可用於大批大量生產中。


1.3研磨機(jī)理


研磨的實質是用遊離的磨粒通過研具對工(gōng)件表麵進行(háng)包括物理和(hé)化學綜(zōng)合作用的微量切(qiē)前,其速度很低,壓(yā)力很小,經過研磨的工(gōng)件可(kě)獲得(dé)0.001mm以內的尺寸誤差,表麵粗(cū)糙度一般(bān)能達到R.=0.4~0.1μm,最小(xiǎo)可(kě)達Ra=0.012μm,表(biǎo)麵幾何形狀精度和一些位置(zhì)精度也可進一步提高。 

盡管研磨已廣泛應用(yòng)於機械加工中,並且獲得了最佳的工藝效果(guǒ),但人們對研磨過程的機理有多種觀點。

純切削說

這種觀(guān)點認為:研磨和磨削一樣,是一種純切削過程。最終精度(dù)的獲(huò)得是由很多微小的硬(yìng)磨粒對工件表麵不斷切削,靠磨粒的尖劈、衝擊、刮削和擠壓作(zuò)用,形(xíng)成無數條切(qiē)痕重疊、互相交(jiāo)錯、互相抵消的加工麵。它與磨削的差(chà)別隻是(shì)磨粒顆粒(lì)較細,切削運動(dòng)不盡相同(tóng)而已。這種觀(guān)點在實際過程中(zhōng)可以解釋許多現象,也能指導工作。例如,研磨過程中使用的磨(mó)料粒(lì)度一序比一序細,而獲得的精度(dù)則一序比一序高。但這種觀(guān)點解釋不了用軟磨料加(jiā)工硬材料,用大顆粒磨粒卻(què)能加工(gōng)出低粗(cū)糙度表麵的實例,顯然這(zhè)種觀點不全(quán)麵。

塑性變形說

這種觀(guān)點認為在研(yán)磨時,表麵發生了級性變形。即在工件與研具表麵接(jiē)觸運動中,粗糙高凸(tū)的部位在摩擦(cā)、擠壓作用下被“壓平”,填充了(le)低四處,而後形成極低(dī)的表麵粗糖度。住(zhù)然而在研磨極軟材(cái)料(如鉛、錫等(děng))時,產生(shēng)塑(sù)性變形是有可能的;而用軟(ruǎn)基體拋光(guāng)硬材料(如光學玻璃)時,則很難解釋為塑性變形(xíng)。實(shí)際上,工件在研磨前後有質量變化(huà),這說明不是簡單的壓平過程(chéng)。

化學作用說

這種觀點認為:被研磨表麵出現了化學變化過程。工件表麵活性物質在化學作用下,很快就形(xíng)成了一(yī)層化合物薄膜;這層薄膜(mó)具有化(huà)學保護作用,但能(néng)被軟質磨料除掉(diào)。研磨過程就是工件表麵高(gāo)凸部位形成(chéng)的化合物薄膜不斷被除掉又很快形成的過程,最後獲得較低的表麵粗糙度。然而,顯微(wēi)分析表(biǎo)明,經研磨的(de)表層約有(yǒu)微米程度的破壞(huài)層。這說明(míng)研磨不僅是磨料去除化合物薄膜的不(bú)斷形成過程,並且對表麵層有切削(xuē)作用,而化學作用則加速(sù)了研磨過(guò)程。顯然化學作用說也不全麵。

綜上所述,研磨過程不可能由一種觀點(diǎn)來解釋。事(shì)實上,研磨是磨粒對工(gōng)件表麵的切削、活性物質的化(huà)學作用及工件表麵擠壓變形等綜合作用的結果。某一作用的主次程度取決於加工性質及加工過(guò)程的進展階段。

2、拋光

拋光是(shì)指利用(yòng)機械、化學或電化學的(de)作用,降低工件表麵粗糙度,獲得光亮、平整表麵的加工方法。主要是利用拋光工具(jù)和磨料顆粒等對工件表麵進行的修飾加(jiā)工。

2.1拋光(guāng)的分類


機械拋光(guāng)


機械拋光是靠切削或使材料表麵發生(shēng)塑性變形而去掉工件表麵凸出部得到平滑(huá)麵的拋光方法,一般使用(yòng)油石條(tiáo)、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,表麵質量要求高的可采用超精研拋的(de)方法。超精研拋是采(cǎi)用特製的磨(mó)具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工(gōng)件被加工表麵(miàn)上,作高速旋轉運動。利用該技術可達到Ra0.008 μm的表麵粗糙度,是各(gè)種拋光方法中表麵粗糙度最好的。光學鏡片模具常采用這種方(fāng)法(fǎ)。

化學拋光


化學拋光(guāng)是材料在化學介質(zhì)中讓表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從(cóng)而得到平滑麵。該方法可以(yǐ)拋光形狀複雜的工件,可以同時拋(pāo)光很多工件,效率高。化學拋光得到的表麵(miàn)粗糙度一般為(wéi)Ra10 μm。

電解拋光


電解拋(pāo)光基本原理與化學拋光相同,即靠選擇性溶解材料表麵微小(xiǎo)凸出部分,使表麵光滑。與化學拋光相比,它可消除陰極反應的影(yǐng)響,效果較好。

超聲波拋光


超聲拋(pāo)光是利用工具斷麵作超聲波振動,通過磨料懸浮液(yè)拋光脆硬材料的一種加工方法。將工件放入磨料懸浮液中並一起置於超(chāo)聲波場中,依(yī)靠超聲波(bō)的振蕩作用,使磨料在工件表麵磨削拋光。

流體拋光


流體拋光是依靠流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到(dào)拋光的目的。流體動力研磨是由液壓驅動,介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物(聚合物狀物質)並摻入磨料製成,磨(mó)料可采用碳化矽粉末。

磁研(yán)磨拋光


磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用(yòng)下形成磨料刷,對工件磨削加工。這種方法加(jiā)工效率(lǜ)高,質量好,加工條件容易控製。。

電火花超聲(shēng)複合拋光


為了提高表麵粗糙度Ra為(wéi)1.6 μm以上工件的拋光速度,采用超聲波與專用的高(gāo)頻窄脈衝高峰值電流的脈衝電源進行複合拋光,由超聲振動(dòng)和電脈衝的腐蝕(shí)同時作用於工件表麵,迅(xùn)速降低其表麵粗糙度。

2.2拋光的工藝過程


粗拋


精銑、電火花加工、磨(mó)削等工藝後(hòu)的表麵可以選擇轉速(sù)在35 000~40 000 r/min的旋轉表麵(miàn)拋光機進行拋光。然後(hòu)是手工(gōng)油石研磨,條狀油石加煤油(yóu)作為潤滑劑或冷卻劑。使(shǐ)用順序為180#→240#→320#→400#→600#→800#→1 000#。

半精拋


半精拋主要使用砂紙和煤油。砂紙的號數依次為:400#→600#→800#→1 000#→1 200#→1 500#。實際上#1 500砂紙隻用適於淬硬的模具鋼(52 HRC以上),而不適用於預硬鋼,因為這樣可能會導致預硬鋼件表麵損傷,無法達到預期拋光效果。

精拋


精拋主要使用(yòng)鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合鑽石研磨粉(fěn)或研磨膏進行(háng)研磨,則通常的(de)研磨順序是9 μm(1 800#)→6 μm(3 000#)→3 μm(8 000#)。9 μm的(de)鑽石研磨膏(gāo)和拋(pāo)光(guāng)布輪可用來(lái)去除1 200#和1 50 0#號砂紙留下的發狀磨痕。

4、珩磨

在對零件加工的過(guò)程中,會使用到多種工藝,其中珩磨加工是對孔進行精整加工的一種加工方式。

珩(héng)磨工藝是一種以被加工麵為導向,在一定進(jìn)給壓力下(xià),通過工具和(hé)零件的相對運動去(qù)除加(jiā)工餘量,其切削軌(guǐ)跡為交叉網紋的精孔加工工藝。


3.1珩磨原理


珩磨是利用安裝於珩磨頭圓周上的一(yī)條或多條油石,由漲(zhǎng)開機(jī)構將油石沿徑向漲開,使其壓向工件孔壁,以便產生一(yī)定的接觸麵。同(tóng)時珩磨頭旋轉和往複運動。零件不動;或者珩磨頭隻(zhī)做旋轉運(yùn)動,工件往複運動,從而實現珩磨。


珩磨的(de)切削有三種模式:定壓進給(gěi)珩磨、定量進給珩磨、定壓(yā)-定量進給珩磨。

3.2珩(héng)磨加工的特點:


加工精度高:特別是(shì)一些中小型(xíng)通孔,圓柱度能達到0.001mm


表麵(miàn)質(zhì)量好:表麵為交叉網紋,有利於潤(rùn)滑油的存儲及(jí)油膜的保持。


加工範圍廣:主要加工各種圓柱形孔:通孔、軸向和徑向有間斷的孔


切削餘量少(shǎo)。


糾孔能力強:采用珩磨加工工藝可以通過(guò)去除最少加工餘量而極大地改善(shàn)孔和外(wài)圓(yuán)的尺寸精度、圓度、直線度、圓柱度和表(biǎo)麵粗糙度。


3.3珩磨的切削過程


定壓進給珩磨


定壓進給(gěi)中,進給機(jī)構以恒定的壓力壓向孔壁,分三個階段(duàn)。

第(dì)一個階段是脫落切削階段,這種定壓珩(héng)磨,開(kāi)始時由(yóu)於孔壁粗糙,油石與孔壁接觸麵積很小,接觸壓力大,孔壁的凸出(chū)部分很快被磨去。而油石(shí)表(biǎo)麵因接觸壓力大,加上切屑對油石(shí)粘結劑的磨耗,使磨粒與粘結劑的結合強(qiáng)度下降,因而有的磨粒在切削壓力的作用下自行脫落,油石麵即(jí)露出新磨粒,此即油石自銳。


第二階段是破碎(suì)切削階(jiē)段,隨著珩磨的進行,孔表(biǎo)麵(miàn)越來越光,與油石接觸麵積越來越大,單位麵積的接觸壓力下降,切(qiē)削效率降(jiàng)低。同時切下的切屑小而(ér)細,這些切屑對粘結劑的磨(mó)耗也很(hěn)小。

因此,油石磨粒脫落很少,此時(shí)磨(mó)削不是靠新磨(mó)粒,而是由磨粒尖(jiān)端切削(xuē)。因而磨粒尖端(duān)負荷(hé)很大,磨粒易破裂、崩碎而形成新的切削(xuē)刃。

第三階段為堵塞切削階段(duàn),繼續珩(héng)磨時(shí)油石和孔表麵(miàn)的接觸麵積越來越大(dà),極細的切屑(xiè)堆積於油石與孔壁之間不易排除,造成油石堵塞,變得很光滑。因此油石切削能力極(jí)低(dī),相當於拋光。若繼續珩磨,油石堵塞嚴重而產生粘結性堵塞時,油石完全失去切削能(néng)力並嚴重發熱,孔的精(jīng)度和表麵粗糙度均會受到影響。此時(shí)應盡快結束珩磨。

定量進給珩磨


定量進給(gěi)珩磨時,進給機構以恒定的速度擴張進給,使磨粒強製性地切入工件。因(yīn)此珩磨過(guò)程隻存在脫落切削和破碎切削,不可能產生堵塞切削現象。

因為當(dāng)油石產生堵塞切削力下降時,進(jìn)給(gěi)量大於實際磨(mó)削量,此時珩磨壓力增高,從而使磨粒脫落、破碎,切削作用增強。

用此種方法珩磨時,為了提高孔精度和表麵粗糙度,最後可(kě)用不進給珩磨(mó)一定時間。

定壓--定(dìng)量進給珩磨


開始時以定壓進(jìn)給(gěi)珩磨,當(dāng)油石進入堵塞切削階段時,轉換為定量進給珩磨,以(yǐ)提高效率。最後可用不進給珩磨,提高孔的(de)精度和表麵粗糙度。



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