磨削之研磨拋光、磨粒流與(yǔ)珩磨的區別
1、磨粒流工藝
磨料流加工(AFM)工藝是理想的拋光和去毛刺方法,特(tè)別是對於複雜的內部形(xíng)狀和有挑戰的表麵加工要求。
磨粒流加工技術(Abrasive Flow Machining,AFM)又稱為擠壓珩磨技術,起源於20世紀60年代,是(shì)一種區別於傳統機械加工的光整加工方法。利用具有一定黏性的流動磨料介質,在一定壓力作用(yòng)下,通(tōng)過引導流過工件的待加(jiā)工表麵,磨料對材料形成擠(jǐ)壓並進行(háng)微量去除,可以達到去除毛刺飛邊、孔口倒圓等加工效果,重要的是可以降低待加工表麵的粗(cū)糙度值,實現光整(zhěng)加工目的。得益(yì)於(yú)塑(sù)性極強的磨料(liào),這種加工(gōng)技術(shù)幾乎可(kě)以對任意形狀的表麵進行光整加工,尤其是針對難以加工的複雜內腔表麵,能取得較好的光整加工效果,近(jìn)年來這種技術在航空、航天、汽車和模具等行業得(dé)到了(le)廣泛應用。
1—活塞 2—工件 3—夾具 4—缸體
1.1工藝係統
磨粒流,簡單來說,就是一(yī)種通過(guò)半流體介質進行拋光去毛刺的工(gōng)藝,主要麵向內孔、以及不規則形狀的中小型工件。磨粒(lì)流(liú)拋光(guāng)工藝包含三個核心要素,即軟磨料、夾具與PLC係統:
軟磨料
軟磨料是由非常細小的硬質顆粒(lì),混合相關液體,調製而成的半(bàn)流體狀態的介質,磨料顆粒的大小、硬度,以及半流體的粘稠度、遇熱(rè)後(hòu)是否(fǒu)會黏貼工件,是影響(xiǎng)拋(pāo)光去(qù)毛刺質量的關鍵。磨料(liào)通常選材有碳化(huà)矽、白剛玉、金剛石等,根據各(gè)自(zì)的硬度,對應不同材質(zhì)的工件(jiàn)。例如鋁(lǚ)製品、銅製品工件,選用碳化矽磨料即可。而硬度較高的鎢鋼、合金鋼,選用(yòng)白(bái)剛玉或金剛石更為合適。
工裝夾具(jù)
選用夾具的原因(yīn)是,為了提高工件拋光去毛刺的效率。一(yī)來,一款(kuǎn)夾具(jù)上可(kě)以同時夾持多個(gè)工件,一次性加工。二來,使用工裝夾具後,退模換工件時,不必每次校準,大大(dà)減少了停機時間(jiān)。
工裝夾具設計的關鍵在於,在提升效率的前提下,如何保(bǎo)持工件(jiàn)均勻受力,而不致於使工件壓傷。
PLC係統(tǒng)
PLC係統是整個磨粒流設(shè)備的(de)控製中心,PLC係(xì)統設計(jì)地簡潔、規(guī)範(fàn),既可以讓操作人員更快上手,減少培(péi)訓磨合時間,又可以減少設備故障率,延長設備使用壽命。
1.2磨粒流特點
(一)可(kě)加工內腔(qiāng)複雜的零(líng)件
(二)均勻性和重複性好
(三)可實現自動化生產(chǎn)
(四(sì))生產效率高
(五)可控性及可預測性好
(六)加工表(biǎo)麵質好
1、研磨
研磨是將研磨工具(以下簡稱研具)表(biǎo)麵嵌(qiàn)人磨料(liào)或敷塗磨料並添加潤(rùn)滑劑,在一定的壓力作用下,使工件和研具接觸並做相(xiàng)對運動,通過磨料作用,從工件表麵切去一層極薄的切屑,使工件具有精確的尺(chǐ)寸、準(zhǔn)確的幾何形狀和很高的表麵粗糙度,這種對工件表麵(miàn)進行最終精密加工的方法,叫做研磨。
1.1研磨的種類
濕研將液狀研磨劑塗敷或連續加注於研具表麵,使磨料(W14~W5)在被加工的產品與研(yán)具間不斷(duàn)地滑動與滾動(dòng),從而實(shí)現對工件的切削。濕研應用較多。
幹研將磨料(W3.5~W0.5)均勻地壓嵌(qiàn)在研具(jù)表層上,研磨時需(xū)在研具(jù)表麵塗以(yǐ)少(shǎo)量的潤滑劑。幹研多用於精研。
半幹研(yán)所用研磨(mó)劑為(wéi)糊狀的研磨膏,粗、精研均(jun1)可采用。
1.2研磨的特點及應(yīng)用範圍
設備(bèi)簡單,精度要求高。
加工質量可靠(kào)。可獲得很高(gāo)的精度和很低的Ra值。但一般不能提高加工麵與其他表麵(miàn)之間的位置精(jīng)度。
可加工各種鋼、淬硬鋼、鑄鐵、銅鋁及(jí)其合金、硬質合金、陶瓷、玻璃及某些塑(sù)料製品等。
研磨廣泛用於單件小批生產中加工各種高精度型麵,並可(kě)用於大批大量生產中。
1.3研磨機理
研磨的(de)實質是用遊離的磨粒通過研具對工件(jiàn)表麵進行包(bāo)括物理和化學綜合作用的微量切前(qián),其速(sù)度很低,壓力很小,經過研磨的工件可獲得(dé)0.001mm以(yǐ)內的尺寸誤差,表麵粗糙度一(yī)般能達到R.=0.4~0.1μm,最小可達Ra=0.012μm,表麵幾何形狀精度和一些位置精度也可進一步(bù)提高。
盡管研磨已廣泛應用於機械加工中,並且獲得了最佳的工藝效果,但人們(men)對研磨過(guò)程的機理有多種觀點。
純切削(xuē)說
這種觀點認為:研磨和磨削一樣(yàng),是一種純切削過程。最終精度的獲得是由很多微小的硬磨粒對工件(jiàn)表麵不斷切削,靠(kào)磨(mó)粒(lì)的尖劈、衝(chōng)擊、刮削和擠壓作用,形成無數條切痕(hén)重疊(dié)、互相交錯、互相抵消的加工麵。它與磨削(xuē)的差別隻是磨粒顆粒較細,切削運動不盡相同而已。這種觀(guān)點在(zài)實際過程中可以解釋許多現象,也能指導(dǎo)工作。例如,研磨過程中使用的磨料粒度一序比一序細,而(ér)獲得的精(jīng)度則一序比一序高(gāo)。但這種觀點解釋不了用軟磨料加工硬材(cái)料,用(yòng)大顆粒磨粒卻能加(jiā)工出低粗糙度表麵的實例,顯然這種觀點不全麵。
塑性變形說
這種觀點認為在研磨(mó)時,表麵發生了(le)級性變(biàn)形。即(jí)在工件與研具表麵接觸運動中,粗糙高凸的部位在摩擦、擠(jǐ)壓作用下被“壓平”,填充了低四處,而(ér)後形成極低的表麵粗糖度。住然而在研磨極軟材料(如鉛、錫等)時,產生塑(sù)性變形是有可能的;而用軟基體拋光硬材料(如光學玻璃)時,則很難解釋為塑性變形。實際上,工件在研磨前後有質(zhì)量變(biàn)化,這(zhè)說明不是簡單的壓平過程。
化學作用說
這種觀點認為:被(bèi)研磨表麵出現了化學變化過程。工(gōng)件(jiàn)表麵活性(xìng)物質在化學作用下,很快就形成了一層化合物薄膜;這層(céng)薄(báo)膜具有化(huà)學(xué)保護(hù)作用,但能被軟質磨料除掉。研磨(mó)過程就是工件表麵高凸部位形成的化合物薄膜不斷被除掉又很快形(xíng)成的過程,最後(hòu)獲得較低的表麵粗糙(cāo)度。然而,顯微(wēi)分析表明,經研磨的表層約有(yǒu)微米程度的破壞層。這說明研磨不僅是磨料去除化合物薄膜的不斷形成過程,並且對(duì)表麵層有切削作(zuò)用,而化學作(zuò)用則加速了(le)研磨(mó)過程(chéng)。顯然化學(xué)作用說也不全麵。
綜上所述,研磨過程不可能由(yóu)一種觀(guān)點來解釋(shì)。事實上,研磨是磨粒對工件表麵(miàn)的切削、活性物質的化學作用及工件表麵擠壓變形等綜合作用的結果(guǒ)。某一作用的(de)主(zhǔ)次程(chéng)度取決於加工(gōng)性質及加工過程的進展階段(duàn)。
2、拋(pāo)光
拋光是指利用機械、化學或電化(huà)學的作用,降(jiàng)低工件(jiàn)表麵粗糙度,獲得光亮、平整(zhěng)表麵的加工方法。主(zhǔ)要是利用拋光工具和磨料顆粒等對工件表麵進行的修飾加工。
2.1拋光的分類
機械拋光
機械拋光是(shì)靠切削或使材(cái)料表麵發生(shēng)塑性變(biàn)形而去掉工件表麵凸出部得到平滑麵的拋光方法,一般使(shǐ)用油石(shí)條、羊毛輪、砂紙等(děng),以手工操作為主,表麵(miàn)質量要求(qiú)高的可(kě)采(cǎi)用超精(jīng)研拋(pāo)的方法。超精研(yán)拋是采用特製的磨具,在含有磨料(liào)的研拋液中,緊壓在工件被加工表麵上,作高速旋轉運動。利用(yòng)該技術(shù)可達到Ra0.008 μm的表麵粗糙度,是各(gè)種拋光方法中表麵(miàn)粗糙度最(zuì)好的。光學鏡片模具常采用這種方法。
化學拋光
化學拋光是材料在(zài)化學介質中(zhōng)讓表麵微觀凸(tū)出的部分較凹部分優先溶解,從而得到平滑麵(miàn)。該方法可以拋光形狀複雜的工件,可(kě)以同(tóng)時拋光很多工件,效率高。化學拋光得到的表麵粗糙(cāo)度一般為Ra10 μm。
電解拋光
電解拋光基本原理與化學拋光相同,即靠選擇性溶(róng)解材料表麵微小凸出部分,使表(biǎo)麵光滑。與化學拋光相比,它可(kě)消除陰(yīn)極反應的影響,效果較好。
超聲波拋光
超聲拋光是利用工具(jù)斷麵作超聲波振動,通(tōng)過(guò)磨料懸浮(fú)液拋光脆硬材料的一種加工方法。將工件放入磨料懸浮液中並一起(qǐ)置於超聲波場中,依靠(kào)超聲波(bō)的振蕩作(zuò)用,使磨(mó)料在工件(jiàn)表麵磨削拋光。
流體拋光
流體拋光是依靠流動的液體及其攜帶的磨(mó)粒衝刷工件(jiàn)表麵達到拋光的目的。流體動力研磨是由液壓驅動,介質主要采(cǎi)用在較低壓力下(xià)流過性(xìng)好的特殊化合物(聚合物狀物質)並摻入磨料製成,磨料可采(cǎi)用(yòng)碳化矽粉末。
磁研磨拋(pāo)光(guāng)
磁研磨拋光是利用磁性(xìng)磨料在磁(cí)場作用(yòng)下形成磨(mó)料刷,對工件磨削加工。這種(zhǒng)方法加工效(xiào)率高,質量好,加工條件容易(yì)控製。。
電火花超聲複合拋光
為(wéi)了提高(gāo)表麵粗糙度Ra為1.6 μm以上工件(jiàn)的拋光速度,采用(yòng)超聲波與專用的高頻窄脈衝高峰值電流的脈衝電源進行複合拋光,由超聲振動和電脈衝的腐蝕同時作用於工件表麵,迅速降低其表(biǎo)麵粗糙度。
2.2拋光(guāng)的工藝過程
粗拋
精銑、電(diàn)火花加(jiā)工(gōng)、磨(mó)削等工藝後的表(biǎo)麵可以選擇轉速在35 000~40 000 r/min的旋轉(zhuǎn)表麵拋光機進行拋光。然後是(shì)手工油石(shí)研(yán)磨,條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。使用順序為180#→240#→320#→400#→600#→800#→1 000#。
半精拋
半精拋(pāo)主要使用砂紙和(hé)煤油。砂(shā)紙的號數依次為:400#→600#→800#→1 000#→1 200#→1 500#。實際上#1 500砂紙隻用適於淬硬(yìng)的(de)模具鋼(52 HRC以上),而不適用於預硬鋼,因為這樣可能會導致預(yù)硬鋼件表麵損傷,無法達到預期拋光效果。
精拋(pāo)
精拋主要使用鑽石研磨(mó)膏。若用拋光布輪混(hún)合鑽石研磨粉或研磨膏(gāo)進行研磨,則通常的研磨順序是9 μm(1 800#)→6 μm(3 000#)→3 μm(8 000#)。9 μm的鑽石研磨膏和拋光布輪可(kě)用來去除1 200#和1 50 0#號砂紙留下(xià)的發狀磨痕。
4、珩磨
在對零件加工的過程中,會使用(yòng)到多種工藝,其中珩磨加工是(shì)對孔進行精(jīng)整加工的一種加工方式。
珩(héng)磨工藝是一種以被加工麵為導向,在一定進給壓力下,通過工具和零件的相對運動去除加工餘量,其切削軌跡為交叉網紋的精孔加(jiā)工工藝。
3.1珩磨原(yuán)理
珩磨是利用安裝於珩磨頭圓周上(shàng)的一(yī)條或(huò)多條油石(shí),由漲開機構(gòu)將油石沿徑向漲開,使其壓向工件孔(kǒng)壁,以便產生一定的接觸麵。同時珩磨頭(tóu)旋轉和(hé)往複運(yùn)動。零件不動;或者珩磨頭隻做旋轉運動,工件往複運動(dòng),從而實現珩磨。
珩(héng)磨的切削有三(sān)種模式:定壓進給珩磨、定量(liàng)進給珩磨、定壓-定量進給珩(héng)磨。
3.2珩磨加工的特點:
加(jiā)工精度高:特別(bié)是一些中小型通孔(kǒng),圓柱度能達到0.001mm
表麵質量好:表麵為交叉網紋(wén),有利於潤滑油的存儲及油膜的保持。
加工範圍廣:主(zhǔ)要加工各種圓柱形孔(kǒng):通孔、軸(zhóu)向和徑(jìng)向有間斷的孔
切削餘量少。
糾孔能力強:采用珩磨(mó)加工工藝(yì)可以通過去除最少加工餘量而極大地改善孔和(hé)外圓的尺寸精度、圓度、直(zhí)線(xiàn)度、圓柱度和表麵粗糙度。
3.3珩磨的切削過(guò)程
定壓進給(gěi)珩磨
定壓(yā)進給中,進給機構以恒定的壓力壓向孔壁,分三個階段。
第一個階段是脫落切削階段,這種定壓珩磨,開始時由於孔壁粗糙,油石與孔壁(bì)接(jiē)觸麵積很小(xiǎo),接觸壓(yā)力大,孔壁的凸出部分(fèn)很快被磨去。而油石表麵因接觸壓力大,加上切屑對(duì)油石粘結劑的磨耗,使磨粒與粘(zhān)結劑的結合強度下降,因(yīn)而有的磨粒在切削壓力的作用下自行脫(tuō)落,油石麵即露出新磨粒,此即(jí)油石自銳。
第二階段是破碎(suì)切削階段,隨著珩磨的進行,孔表(biǎo)麵(miàn)越來越光,與油石接(jiē)觸麵積越來越大,單位麵積的接觸壓力(lì)下降,切削效率降低。同時切下(xià)的切屑小而細,這(zhè)些切屑對粘(zhān)結劑的磨耗也很小。
因此,油石磨粒脫落很少,此時磨削不是靠新磨粒,而是由磨粒尖端切削。因而磨粒尖端負荷很大,磨粒易破裂、崩(bēng)碎而形成新的切削刃。
第三階段為(wéi)堵塞切(qiē)削階段,繼續珩磨時油石和(hé)孔表麵的接觸麵積越來越(yuè)大,極細的切屑堆積於油石(shí)與孔壁之(zhī)間不易(yì)排除,造成油(yóu)石堵塞,變得(dé)很光滑。因此油石切削能力極低,相當(dāng)於拋光。若繼續珩磨,油石堵塞嚴重(chóng)而產生粘結性堵塞時,油石完全失去切削能力並嚴重發熱,孔的精度和表麵粗糙度均會受到影響。此時應盡快結(jié)束珩磨。
定(dìng)量進給珩磨(mó)
定量進給珩磨(mó)時,進給機構(gòu)以恒定的速度擴張進給,使磨粒強製性地切入工件。因此珩磨過程隻存在脫落切削和破碎切削,不(bú)可能產生(shēng)堵塞切削現(xiàn)象。
因為當油石(shí)產生堵塞切削力下降時,進給(gěi)量大於實際磨削量,此時珩磨壓力增高,從而使磨粒脫落(luò)、破碎(suì),切削作(zuò)用增強(qiáng)。
用此種方法珩磨時,為了提高(gāo)孔精度和表麵粗糙度,最後可用不進給珩(héng)磨一定時間。
定壓--定量進給珩磨
開始時以定壓進給珩磨,當油石進入堵塞切削階段時,轉(zhuǎn)換為定(dìng)量進給珩磨(mó),以提高效率(lǜ)。最後可用不進(jìn)給珩磨,提高孔(kǒng)的精度(dù)和表(biǎo)麵粗糙度。