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磨削之研磨拋(pāo)光、磨粒流與珩磨(mó)的區別

訪問量 : 0    編(biān)輯時間 : 2023-09-22    來源: 去毛刺機

磨削之(zhī)研磨拋光、磨粒流與珩磨的區別(bié)


1、磨(mó)粒流工(gōng)藝

磨料流加工(AFM)工藝是理想的拋光和去毛刺(cì)方法,特別是(shì)對於(yú)複雜的內部形狀和有(yǒu)挑戰的表麵加工要(yào)求。


磨粒流(liú)加工技術(Abrasive Flow Machining,AFM)又稱為擠壓珩磨技術,起源於20世紀60年代,是一種區別於(yú)傳統機械(xiè)加(jiā)工的(de)光整加工方法。利用具有一定黏性的流動磨料介質,在一定壓力作用下,通過引(yǐn)導流過工(gōng)件的待加(jiā)工表麵,磨料對材料形成擠壓並(bìng)進行微量去除,可以達到去除毛刺飛邊(biān)、孔口倒圓等加工效果,重要的是可以降低待加工表麵的粗(cū)糙度值,實(shí)現光整(zhěng)加工目(mù)的。得益於塑性極強的磨料,這種加工技術幾乎(hū)可以對任意(yì)形狀的表麵進行光整加(jiā)工,尤其是(shì)針對難以加工的複雜內腔表麵,能取得較好的(de)光整(zhěng)加工效果,近年來這種技術在航空、航天、汽車和模具等行業得到了(le)廣(guǎng)泛應用。

1—活塞 2—工件 3—夾具 4—缸體

1.1工藝係統

磨(mó)粒流,簡單來說,就是一種通過半(bàn)流體介質進行拋光去毛(máo)刺(cì)的工藝,主要麵向內孔、以及不規則形狀的中小型工件。磨粒流拋光工藝包含三個核心要素,即軟磨料、夾具與PLC係統:

軟磨(mó)料

  軟磨(mó)料是(shì)由非常細小的硬質顆粒,混合相關液體(tǐ),調製(zhì)而成的半流體狀態的(de)介質,磨料顆粒的大(dà)小、硬度,以及半流體的粘稠度、遇熱後(hòu)是否會黏貼工(gōng)件,是影響拋光去毛刺質量的關(guān)鍵。磨料通常選材有碳化(huà)矽、白剛玉、金剛石等,根據各(gè)自的硬度,對應不同材質的(de)工件。例如鋁製品、銅製品工件,選用碳化矽磨(mó)料即可。而硬度(dù)較高的鎢鋼、合金鋼,選用白剛玉或金剛石更為合適。

工裝夾具

選用夾具的原因是,為了提高工件拋光去毛刺的效率。一來,一款夾具上可以同(tóng)時夾持多個(gè)工件,一次性加工。二來,使用工(gōng)裝夾具後,退模換工件(jiàn)時,不必(bì)每次校準,大大減少了停機時間。

工裝夾具設計的關鍵在於,在提升效率的前提下,如何保持工件均勻(yún)受力,而(ér)不致於使工件壓(yā)傷。

PLC係統

  PLC係統是整個磨粒流設備(bèi)的控製中心,PLC係統設計地簡潔(jié)、規範,既可以讓操作(zuò)人員更快上手,減少培訓磨(mó)合時間,又可(kě)以減少設備故障率,延長設備使用壽命。

1.2磨粒流特(tè)點(diǎn)

(一)可加工內腔複雜的零件

(二)均勻性和(hé)重複(fù)性好

(三)可實現自動化(huà)生產

(四)生(shēng)產效率高

(五)可(kě)控性及(jí)可(kě)預測性好

(六(liù))加工表麵質好

1、研磨

研磨(mó)是將研磨工具(以(yǐ)下簡稱研具)表麵嵌人磨料或敷塗磨料並(bìng)添加潤滑劑,在一定(dìng)的壓力作(zuò)用下,使工件和(hé)研具接觸並做相對運動,通過磨料作用,從(cóng)工件表麵切去一(yī)層極薄的切屑,使工件具有精確的尺寸、準確的幾何形狀(zhuàng)和很(hěn)高的表麵粗糙度,這種對工件表麵進行最終精密(mì)加工的方法,叫做研磨。

1.1研磨的種類(lèi)


濕研將液狀研(yán)磨劑塗敷(fū)或連(lián)續(xù)加注(zhù)於研具表(biǎo)麵(miàn),使磨料(W14~W5)在被加工的產品與研具間不斷地滑動與滾動,從而實(shí)現對工件的切(qiē)削。濕研應用較多。

幹研將磨料(W3.5~W0.5)均(jun1)勻地壓嵌在研(yán)具(jù)表層上,研磨時需在研具表麵塗以(yǐ)少量的潤滑(huá)劑。幹研多用於精研。

半幹研所用研磨劑為糊狀的研磨膏(gāo),粗、精(jīng)研均可采用。

1.2研磨的特點及應用範圍

設備簡單,精(jīng)度要求高。


加工質量可靠。可獲得很高的精度和很低的Ra值。但(dàn)一般不能(néng)提高加工麵與其他表麵之(zhī)間的位置(zhì)精度。

可加工各種鋼、淬硬鋼、鑄鐵、銅鋁及其合金、硬質合金、陶瓷、玻璃及某些(xiē)塑料製品等。

研磨廣泛用於單件小批(pī)生產中加工各種高精(jīng)度(dù)型麵,並可用於大批大量生產中。


1.3研磨機理


研磨的實質是用遊離的(de)磨粒通過研(yán)具對工件表麵進行包(bāo)括(kuò)物理和化(huà)學綜合作(zuò)用的微量切前,其速度很低,壓力很小,經過研磨(mó)的工件可獲得0.001mm以內的尺寸誤差,表(biǎo)麵(miàn)粗糙(cāo)度一般能達到R.=0.4~0.1μm,最小可達Ra=0.012μm,表麵幾何(hé)形狀精度和一些位(wèi)置(zhì)精度也可(kě)進一步提高。 

盡管(guǎn)研磨(mó)已廣泛應用於機械加工中,並且獲得了最佳的工藝效果,但人們對研磨過程的機理有多種觀(guān)點。

純切削說

這種觀點認為:研磨和磨(mó)削一樣(yàng),是(shì)一種純切削過程。最終精度的獲得是由很多微小的硬磨粒對工件表麵不斷切削,靠(kào)磨粒的尖劈、衝擊、刮(guā)削和(hé)擠壓作用,形成無數條切痕重疊、互相交錯、互相抵消的(de)加工麵(miàn)。它與(yǔ)磨削的差(chà)別隻是磨粒顆粒較細,切削運(yùn)動不盡相同而已。這種觀點在(zài)實際過程中可(kě)以解釋許(xǔ)多現象,也能(néng)指導工作。例如,研磨過程中使用的磨料粒度一序比(bǐ)一序細,而獲得(dé)的精度則一序比一序高。但這種觀點解釋不了用軟磨料加工硬材料,用(yòng)大顆粒磨粒卻能加工(gōng)出低粗(cū)糙度表(biǎo)麵的實例,顯然(rán)這種觀點不全麵。

塑性變形說

這種觀點認為在研磨時,表麵發生了級性變(biàn)形。即在工件與研具表(biǎo)麵接觸運動中,粗糙高凸的部位在摩擦、擠壓作用(yòng)下被“壓平”,填充了低四處,而(ér)後形成極低的表麵粗糖度。住然(rán)而在研磨(mó)極軟(ruǎn)材料(liào)(如鉛、錫(xī)等)時,產生塑性變形是有可能的;而用軟基體拋光硬材料(如光學玻璃)時,則很難解釋為塑性(xìng)變形。實際上,工件在研磨前後有質量變化(huà),這說(shuō)明不是簡單的壓平過程。

化學作用說(shuō)

這種觀點認為:被研磨表麵出現了化(huà)學變(biàn)化過程。工件表麵活性物質在化學作用下,很快就形成了一層化合物薄膜;這層薄膜(mó)具有化(huà)學保護作用,但能被軟質磨料除掉。研磨(mó)過程就是工件表(biǎo)麵高凸部位形成的化合物薄膜不(bú)斷被除掉又很快形成的過程,最後獲得較低的(de)表(biǎo)麵(miàn)粗糙度。然而,顯微分析表明,經(jīng)研磨的表層約有微米程度的破壞層。這說明研(yán)磨(mó)不(bú)僅(jǐn)是(shì)磨(mó)料去除化合物(wù)薄膜的不斷形成過程,並且對表麵層有切削(xuē)作用,而化學作用則加速了(le)研磨過程。顯然化學作(zuò)用說也不全麵(miàn)。

綜上所述,研磨過(guò)程不(bú)可能由一種觀點來解釋。事實上,研磨是(shì)磨粒對工件表麵的切削(xuē)、活性物質的化學作用(yòng)及(jí)工件表(biǎo)麵擠壓(yā)變形等綜合作用的結果。某一作用的主次程(chéng)度取決於加工性質及加工過程的進展階段。

2、拋光(guāng)

拋光是指利用機械、化學或電化學的作用,降低(dī)工件表麵粗糙度(dù),獲得光亮、平整表麵的加工方法。主要是利用拋光工具和磨料顆粒等對工件表麵進行(háng)的修飾加工。

2.1拋光的分類


機械拋光


機械拋光是靠切削或使(shǐ)材料(liào)表麵發生塑性變形而去掉工(gōng)件表麵凸出部得到平滑麵的(de)拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,表麵質量要求高的可采用超精研拋的方法。超(chāo)精研(yán)拋是采用特製的磨具,在(zài)含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表(biǎo)麵上,作(zuò)高速旋轉運動。利用(yòng)該(gāi)技術可達到Ra0.008 μm的表麵粗糙度,是(shì)各種拋光方法(fǎ)中表麵粗糙度最好的。光學(xué)鏡片(piàn)模具常采用這種方法。

化學拋光(guāng)


化學拋(pāo)光是材料(liào)在化學介質中讓表(biǎo)麵微觀凸(tū)出的部分較凹部分(fèn)優先溶解,從而得到平(píng)滑(huá)麵。該方法可以拋光形狀(zhuàng)複雜的(de)工件,可以同(tóng)時拋光很多工件,效率高。化學(xué)拋光得到的表麵粗糙度一般為Ra10 μm。

電解拋光


電解拋光基本原理與化學拋光相同(tóng),即靠選擇(zé)性溶解材料表麵微小凸出部分(fèn),使表麵光滑。與化學拋(pāo)光相比,它可消除(chú)陰極反應的影響,效果較好。

超聲波拋(pāo)光


超聲拋光是利用工具斷麵作超聲波振動,通過磨料懸浮液拋光脆硬材(cái)料的一種加工方法。將工件放入磨料(liào)懸浮液中並一起置(zhì)於超(chāo)聲(shēng)波場中(zhōng),依靠超聲波的(de)振蕩作用(yòng),使磨(mó)料在工件表麵磨削拋光。

流體(tǐ)拋光(guāng)


流體(tǐ)拋光(guāng)是依靠流動(dòng)的液體(tǐ)及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。流體動力研磨是由液壓驅動,介質主要采用在較(jiào)低壓力下流過性(xìng)好的特殊化合(hé)物(聚合物狀物質)並摻(chān)入磨(mó)料製成,磨料可采用碳化矽粉末(mò)。

磁研磨拋光


磁研磨(mó)拋光是利(lì)用磁性(xìng)磨料在磁場(chǎng)作用下形成磨料刷,對(duì)工件磨削加工。這(zhè)種方法加工效率高(gāo),質量好(hǎo),加(jiā)工條件容易控製。。

電火(huǒ)花超聲複合拋光


為了提高表麵(miàn)粗糙度Ra為1.6 μm以上工件(jiàn)的拋光速度,采用超聲(shēng)波與專用的(de)高頻窄脈衝高峰值電流的脈衝電源進行複合拋(pāo)光,由(yóu)超聲振動和電脈衝(chōng)的腐蝕(shí)同時作(zuò)用於工(gōng)件表麵,迅速降低其表麵粗糙度。

2.2拋光(guāng)的工藝過程(chéng)


粗拋


精銑、電火花加工、磨削等工藝後的表麵可以選擇轉速(sù)在35 000~40 000 r/min的旋轉表麵拋光(guāng)機進行拋光(guāng)。然後是手工油石研磨,條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。使用(yòng)順(shùn)序為180#→240#→320#→400#→600#→800#→1 000#。

半精(jīng)拋


半(bàn)精拋主要使用(yòng)砂紙和煤油(yóu)。砂(shā)紙的號數依次為:400#→600#→800#→1 000#→1 200#→1 500#。實際上(shàng)#1 500砂紙(zhǐ)隻用適於淬硬的(de)模具鋼(52 HRC以上),而不適用於預硬鋼(gāng),因為這樣可能(néng)會導致預硬鋼件表麵損傷,無法達到預期拋光(guāng)效果。

精拋


精拋主(zhǔ)要使用鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合鑽石研磨粉或研磨膏(gāo)進行研磨,則(zé)通常的研磨順序是(shì)9 μm(1 800#)→6 μm(3 000#)→3 μm(8 000#)。9 μm的鑽石研磨膏和拋光布輪可用來去除1 200#和1 50 0#號砂紙留下的發狀磨痕。

4、珩磨

在對零件加工的過程中,會使用到多種(zhǒng)工藝,其中珩磨加工是對孔進行精整加工(gōng)的一種加工方(fāng)式。

珩磨工藝是一種以被加工麵為導向,在一定進給壓力下,通過工具和(hé)零件的相對運(yùn)動去除加工餘量,其切削軌跡(jì)為交叉網紋的精孔加工工藝。


3.1珩磨原理


珩磨是利用安裝於珩磨頭圓周上的一條或多條油石,由漲開機構將油石沿徑(jìng)向漲開,使其壓(yā)向工件孔壁,以便產生一定(dìng)的接觸麵(miàn)。同時珩磨頭旋轉和往複運動。零件不動;或者珩磨頭隻做旋轉運動,工件往複運動,從而實現珩磨。


珩磨的切削有三種模式:定壓進給珩(héng)磨、定量進給珩磨、定壓-定量進給珩磨。

3.2珩磨加工的特點:


加工精度高(gāo):特別是一些(xiē)中小型通(tōng)孔,圓柱度能達到0.001mm


表麵質(zhì)量好:表麵為交(jiāo)叉網紋,有利於潤滑油的存儲及油膜的保持。


加工範圍廣:主要加工各種圓柱形孔:通孔、軸向和徑向有間斷的孔


切(qiē)削餘量少。


糾孔能力強:采用珩磨加工工(gōng)藝可以通過去除最少加(jiā)工餘(yú)量而極大地改(gǎi)善孔和外圓的尺寸精度、圓度、直線度、圓柱度和表麵粗糙度。


3.3珩磨的切削過程


定壓進給珩磨(mó)


定壓進給中,進給機構(gòu)以恒定(dìng)的壓力壓向孔壁,分三個階段。

第(dì)一個階段是脫落切削階段,這種定壓(yā)珩磨,開始(shǐ)時由於孔壁粗糙,油石與孔壁接觸麵積很小,接觸壓力大,孔壁的凸出部分很快被磨去。而油石表麵因接觸壓力大,加上(shàng)切屑對油(yóu)石粘結劑的磨耗,使(shǐ)磨粒與粘結(jié)劑的結合強(qiáng)度下降(jiàng),因而有的磨粒(lì)在切削壓力的作用下自行脫落,油石麵即露出新磨粒,此即油石自銳。


第二階段(duàn)是破碎切削階段,隨著珩磨的進行,孔表麵越來越光,與油石接觸麵積越來越大,單位麵積的接觸壓力下降,切削效率降低。同時切下的切屑小而細,這些切屑(xiè)對粘結(jié)劑的磨耗也很小。

因此,油石磨粒脫落很少,此時磨削不(bú)是靠新(xīn)磨粒,而是由磨粒尖端切(qiē)削。因而磨粒尖端負荷很大,磨粒易破裂、崩碎而(ér)形成新的切削刃。

第(dì)三階段為堵(dǔ)塞切削階段,繼(jì)續珩(héng)磨時油石和孔表麵的接觸麵積越來越大,極細的切屑堆積於油石與孔(kǒng)壁之間不易(yì)排除,造(zào)成油石堵塞,變得很光滑。因此油石切削能力極低,相當於拋光。若繼(jì)續珩磨,油石(shí)堵塞嚴重而產生(shēng)粘結性堵塞時,油石完全失去(qù)切削能力並嚴重發熱,孔的精度和表麵粗糙(cāo)度均會受到影響。此時應盡快結束珩(héng)磨。

定量進給珩磨


定(dìng)量進給珩磨(mó)時,進給(gěi)機構(gòu)以恒定(dìng)的速度擴張進給,使磨粒強製性地切(qiē)入工件。因此珩磨過程隻存在脫落切削和破碎切削,不可能產生堵塞(sāi)切削現象。

因為當油石產生堵塞切削(xuē)力下降時,進給量大於實際磨削量,此時珩磨壓力(lì)增高,從而使磨粒脫落、破碎,切削作用增強(qiáng)。

用此種方法珩磨時,為(wéi)了提高孔精度和表麵粗糙度,最後可用不進給珩磨一定時間。

定壓--定量進(jìn)給珩磨


開始時以定壓進給(gěi)珩磨,當油石進(jìn)入堵塞切削階段時,轉(zhuǎn)換為定量進給珩磨,以提高效率。最後可用不進給珩磨,提高孔的精度和表麵粗糙度。



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