拋光機的拋光速（sù）率低解決這個矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩（liǎng）個階段進行（háng）。

　　粗拋目的是去除（chú）磨光（guāng）損傷層，這一階段應具有最大的（de）拋光速率，粗拋形成（chéng）的（de）表層損傷是次要的考慮，不過也應當盡（jìn）可能（néng）小;其次是精拋(或稱（chēng）終（zhōng）拋)，其（qí）目的是去除粗拋產生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。拋光機拋光時，試樣磨麵與拋光盤應絕對平行並均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛（fēi）出和因壓力（lì）太大（dà）而產生（shēng）新磨痕。

　　同（tóng）時，還應使試樣自轉並沿轉盤半徑方向來回移動，以避免拋（pāo）光織物（wù）局部磨損太快在拋光（guāng）過（guò）程中要不斷（duàn）添加微粉懸（xuán）浮液，使拋光織物（wù）保持一定濕度。濕度太（tài）大會減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產生“曳尾”現象;濕度太小時，由於摩擦生熱會使試（shì）樣（yàng）升溫，潤滑作用減小，磨麵失去光（guāng）澤，甚至出（chū）現（xiàn）黑斑，輕合金則會拋傷表麵。

　　當然，我們為了達到粗拋的目的，要求轉盤轉速較低，最好不要超過600r/min;拋光時間應當比去掉（diào）劃痕所需（xū）的時間長些，因為還要去掉變形層。粗（cū）拋後（hòu）磨麵光滑（huá），但黯淡無（wú）光（guāng），在顯微（wēi）鏡下觀察有均勻細致的磨痕，有待精拋消除（chú）。