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磨削之研磨拋(pāo)光、磨粒流與珩磨(mó)的(de)區別

訪問量 : 0    編輯時間 : 2023-09-22    來源: 去毛刺機

磨(mó)削之研磨拋光(guāng)、磨(mó)粒流與珩磨的區別


1、磨粒流工藝

磨料流加工(AFM)工藝是理想的拋光和去毛刺方(fāng)法,特別是對(duì)於複雜的內部形狀和有挑戰的表麵(miàn)加工要求。


磨粒流加工技術(Abrasive Flow Machining,AFM)又稱(chēng)為擠壓珩磨技術,起源於20世紀(jì)60年代,是一種區(qū)別於傳統機械加工的光整加工方法。利用具有一定黏性的流動磨料介質,在一定(dìng)壓力作用下(xià),通過引導流(liú)過工件的待加工表麵,磨料(liào)對材料形成擠壓並進行微量去除,可以達(dá)到去除毛刺飛邊、孔口倒圓等加工效果,重要的是可以降低待(dài)加工表麵的粗糙度值,實現光整(zhěng)加工目的。得益(yì)於塑性極強的磨料(liào),這種加工技術幾乎可以對任意形狀的表(biǎo)麵進行(háng)光整加工,尤其是針(zhēn)對難以加工的複雜內腔表麵(miàn),能取得較好的光整加工效果,近年來(lái)這種技術在航空、航天、汽車和模(mó)具(jù)等行業得到了廣泛應用(yòng)。

1—活塞 2—工件 3—夾具 4—缸體

1.1工藝係統

磨粒流,簡(jiǎn)單(dān)來說,就是(shì)一種通過半流體(tǐ)介質進(jìn)行拋光去(qù)毛刺的工藝,主要麵向內孔、以及不規則形狀的中小型工件。磨粒流(liú)拋光工藝包含三個核心要素,即(jí)軟磨料、夾具與PLC係統:

軟磨料

  軟磨(mó)料是由非常細小的硬質顆粒,混合相關液體,調製而成的半流體狀態的介質,磨料顆粒的大小、硬度,以及半流體的(de)粘稠度(dù)、遇熱後是否會黏貼工件,是影響拋光去毛刺質量的關鍵。磨料通常選材有碳化矽、白剛玉、金剛石等,根(gēn)據(jù)各自的硬度,對應不同材質的工件。例如鋁製品、銅製品工件,選用碳化矽磨料即可。而(ér)硬度較高的鎢(wū)鋼、合金鋼,選用白剛玉或金剛石更為合適。

工裝夾具

選用夾具的原因是,為了提高(gāo)工件拋光去毛刺(cì)的效率(lǜ)。一來,一款夾具上可(kě)以同時夾持多個工件,一次(cì)性加工。二來(lái),使用工裝夾具後,退模換工件時,不必每次校準,大大減少了停機(jī)時間。

工(gōng)裝(zhuāng)夾具設計(jì)的(de)關鍵在於,在提(tí)升效率的前提下,如何保(bǎo)持工(gōng)件均勻受力,而不致於使工件壓傷。

PLC係統

  PLC係統是整個磨粒流設備的控製中心,PLC係統設計地簡潔、規範,既(jì)可以讓操作人員更快上手,減少培訓磨(mó)合時間,又可以減少設備故障率,延長設(shè)備使用壽命。

1.2磨粒(lì)流特點

(一)可加工內腔複雜的零件

(二)均勻性(xìng)和重複(fù)性好(hǎo)

(三)可實(shí)現自動化生產

(四)生產效率高

(五)可控性及可預測性好

(六)加(jiā)工表麵質好

1、研磨

研(yán)磨是將研磨工具(以下簡稱研具)表麵(miàn)嵌人磨料或敷塗磨料並添加潤滑劑,在一定的壓力作用下,使(shǐ)工(gōng)件和研具接觸並做相對運動,通過磨料作用(yòng),從工件表麵切去一層極薄的切屑,使工件具有精確(què)的尺寸、準確的幾何形狀和很高的表麵粗糙度,這(zhè)種對工件表麵進行最終精密加工的方法(fǎ),叫做研磨。

1.1研磨的種類


濕研將液(yè)狀研磨劑塗敷或連(lián)續加注於研具表麵,使磨料(W14~W5)在被加工的產品與研具間不(bú)斷地滑動與(yǔ)滾動,從而實現對工件的切削。濕研應用較多。

幹研將磨料(W3.5~W0.5)均勻地壓嵌在(zài)研具表層上,研磨時需在(zài)研(yán)具表麵塗以少量的潤滑劑。幹研多用於精研。

半幹(gàn)研所用研磨劑為糊(hú)狀的研磨膏,粗、精研均可采用。

1.2研(yán)磨的特點(diǎn)及(jí)應用範圍

設備簡單,精度要求高。


加工質量可靠(kào)。可獲得很高的精度和很低的Ra值。但一般不能提高加工麵與其他表麵之間的位置(zhì)精度。

可加工各種鋼、淬硬鋼、鑄鐵、銅(tóng)鋁及其合金、硬質合金、陶瓷、玻(bō)璃及某些塑(sù)料製品等。

研磨廣泛用於(yú)單件小批生產中加工(gōng)各種(zhǒng)高精度型麵,並(bìng)可用於大批大量生產中。


1.3研磨機理


研磨的實質是用(yòng)遊離(lí)的(de)磨粒通過研具對工件表麵進行包括物理和化學綜合作用的微量(liàng)切前,其速度很低,壓力很小,經過(guò)研磨的工件可獲得0.001mm以內的尺寸誤差,表麵粗糙度一般能達到R.=0.4~0.1μm,最小可達Ra=0.012μm,表麵幾何形狀精度和一些(xiē)位置精度也可進一步提高。 

盡管研磨已廣泛(fàn)應用(yòng)於機械加工中,並且獲得了最佳的工藝效果,但人們對研磨過程的機理有(yǒu)多種觀點(diǎn)。

純切削說

這種觀點認為:研磨和磨削一樣,是一種純(chún)切削過(guò)程。最終精度的獲得是由很多微小的硬磨粒對工件表麵不斷切削,靠磨粒的尖(jiān)劈、衝擊、刮削和擠壓作用,形成無數條切痕重疊、互(hù)相交錯、互相抵消的加工麵。它與磨削的差別隻是磨(mó)粒顆粒較細(xì),切削運動不盡相同(tóng)而已(yǐ)。這種觀點在(zài)實際過程中可(kě)以解釋許多現象,也能指導工作。例如,研磨過程中使用的磨料粒度一序比一序細,而獲得的精度則一序比一序高。但這種觀點解釋不了用軟磨料加工(gōng)硬(yìng)材料,用(yòng)大顆粒磨粒卻(què)能加工出低粗糙度表麵的實例,顯(xiǎn)然(rán)這種觀點不(bú)全麵。

塑性變形(xíng)說

這(zhè)種觀點認為在研磨時,表麵發生了級性(xìng)變形。即在工件與研具(jù)表麵接觸運動中,粗糙高凸的部位在摩擦、擠壓作用下被“壓(yā)平”,填充了(le)低四處,而後形成極低的表麵粗糖(táng)度。住然而在研磨極軟材料(如鉛、錫等)時,產生塑性變形是有可能的;而用軟基體拋光(guāng)硬材料(如光(guāng)學玻璃)時,則(zé)很難解釋為塑性變形。實際上,工件在研磨前後有質量變化(huà),這說明不(bú)是(shì)簡單的壓平過程。

化學作用說(shuō)

這種觀點認為:被研磨表麵出現了化學變化過程。工件表麵活性物質(zhì)在化學作用下,很快就形成了一層(céng)化合物薄膜;這層(céng)薄膜具有化學保護(hù)作用,但能被軟質磨料除掉。研磨過程就是(shì)工件表麵高凸部位形成的化合物薄膜不斷被除掉又很快形(xíng)成的過程,最後獲得較低的表麵粗糙度。然而,顯微分析表明,經研磨的表層約有微米程度的破壞層。這說明研磨不僅是磨料去(qù)除化合(hé)物薄膜的不(bú)斷形成過(guò)程(chéng),並且對表麵層有切削(xuē)作用,而化(huà)學作用則加速了研磨過程(chéng)。顯然化學作用說也不全麵。

綜上所述,研磨過程不可能由(yóu)一種觀點來解釋。事實上,研(yán)磨是磨粒對工件表麵的切削、活性物質的化學作用及工件表麵擠壓變形等綜合作用的(de)結(jié)果。某一作用的主次程度取決(jué)於加工性質及加工過程的進展階段。

2、拋光

拋光(guāng)是指(zhǐ)利用(yòng)機械、化(huà)學或電化學的作用,降低(dī)工件表麵粗糙度,獲得光亮、平整表麵的加工方法。主要是利用拋光工具和磨料顆粒等對工件表麵進行的修飾加工。

2.1拋光的分類


機械拋光(guāng)


機械拋光(guāng)是靠切削或使材料表麵(miàn)發生塑性變形而去掉工(gōng)件表麵凸出部得到平滑(huá)麵的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主(zhǔ),表麵質量要求高的可采用超精研拋的方法(fǎ)。超精研拋是采用特製的磨具,在含有磨料的(de)研拋液(yè)中,緊壓在工件被加工(gōng)表麵上,作高速旋轉(zhuǎn)運動。利用該技術可達到Ra0.008 μm的表麵粗糙度,是各種拋光(guāng)方法中表麵粗(cū)糙度最好的。光學鏡片模具常采用這種方法。

化學拋光


化學拋光是(shì)材料在化學介質中讓(ràng)表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得到平滑(huá)麵。該(gāi)方法可以拋光形狀複雜(zá)的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。化(huà)學(xué)拋光得到的表麵粗糙度一般為Ra10 μm。

電解拋光(guāng)


電解拋光基(jī)本原理與化(huà)學拋光相同,即靠選擇性溶解材料表麵微小凸出部分,使表麵光滑。與化學拋光相比,它可消除陰極反應的影響(xiǎng),效果較好。

超聲(shēng)波拋光


超聲拋光是利用工具斷麵作超聲波振動,通過磨料懸浮(fú)液拋光脆(cuì)硬材料的一種加工方法。將工件放入磨料懸浮液中(zhōng)並一起置於(yú)超聲波場中,依靠超聲波(bō)的振(zhèn)蕩作用(yòng),使磨料在工件表麵磨削拋光。

流體拋光


流體拋光是依靠流動的液體及(jí)其攜(xié)帶(dài)的(de)磨粒衝刷工件表麵(miàn)達到拋光的目的。流體動力研磨是由液(yè)壓驅動,介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過性好的特殊(shū)化合物(聚合物狀物(wù)質)並摻入磨料製成,磨(mó)料可采用碳化矽粉末。

磁研磨拋光


磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形(xíng)成磨料刷,對工件磨削(xuē)加工。這種方法加工效率高,質量(liàng)好,加工條件容(róng)易(yì)控製。。

電火花超聲複合(hé)拋光


為了提高表麵粗糙度Ra為1.6 μm以上工件的拋光速度,采用超聲波與專用(yòng)的(de)高頻窄脈衝高(gāo)峰值電流的脈衝電源進(jìn)行複合(hé)拋光,由超(chāo)聲振動和電脈衝的腐蝕同(tóng)時作用於工(gōng)件(jiàn)表(biǎo)麵,迅速降低其(qí)表麵粗糙(cāo)度。

2.2拋光的工藝過程


粗拋


精銑、電火花加工、磨削等工藝後的表麵可以選擇轉速在35 000~40 000 r/min的旋轉(zhuǎn)表麵拋光機進行拋光(guāng)。然後是手工油(yóu)石研磨,條狀油石加煤油(yóu)作為潤滑劑或冷卻劑。使用順序為180#→240#→320#→400#→600#→800#→1 000#。

半精拋


半精拋主要使用砂紙和煤油。砂紙的號數依(yī)次為:400#→600#→800#→1 000#→1 200#→1 500#。實際上#1 500砂紙(zhǐ)隻用適於淬硬的(de)模具鋼(52 HRC以上),而不適用於預硬鋼,因為這樣可能會導致預硬鋼件表麵損傷,無法(fǎ)達到預期拋光效果。

精(jīng)拋(pāo)


精拋主要使(shǐ)用鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合鑽石研磨粉(fěn)或研磨(mó)膏進行研磨(mó),則通常的研磨順序是9 μm(1 800#)→6 μm(3 000#)→3 μm(8 000#)。9 μm的鑽石研磨膏和拋光布輪(lún)可用來去除(chú)1 200#和1 50 0#號砂紙留(liú)下的發(fā)狀磨痕。

4、珩磨

在對零件加工(gōng)的過程中,會使用到多種工(gōng)藝,其中珩磨加工是對孔進行精整加工的一種加工方式。

珩磨工藝是一種以被加工麵為導向,在一定進給壓力下,通過工具和零件(jiàn)的相(xiàng)對運動去除加工餘量,其切削軌(guǐ)跡為交叉網紋的精孔加工工藝。


3.1珩磨(mó)原理


珩磨是利用安(ān)裝於珩磨(mó)頭圓周上的一條或多條油石,由漲開機構將油石沿徑向漲開,使其(qí)壓向工件孔壁,以便產生(shēng)一定的接觸麵。同時珩磨頭旋轉和往複運動。零件不動;或者珩磨頭隻做旋轉運動,工件往(wǎng)複運動,從而實現珩磨。


珩磨的切削有三種模式:定壓進給珩磨、定量(liàng)進給珩磨、定壓-定(dìng)量進給珩磨。

3.2珩磨加工的特點:


加工精度高:特(tè)別是一些中小型通孔,圓柱度(dù)能達到0.001mm


表麵(miàn)質量好:表麵為交叉網紋,有利於潤滑油的存儲及油膜的保持。


加工範(fàn)圍(wéi)廣:主要加工各種圓柱形孔:通孔、軸向和徑向有間斷的孔


切削餘量少。


糾孔能力強(qiáng):采用珩磨加工(gōng)工藝可以通過去除最少(shǎo)加工餘量而極大地改善孔和外圓的尺寸精度、圓度、直線度(dù)、圓柱度和表麵粗糙度。


3.3珩磨的切削(xuē)過程


定壓進給珩磨


定壓進(jìn)給中(zhōng),進給機構以恒定的壓力壓向孔壁,分三個階段。

第一個階段是脫落切削階(jiē)段,這種定壓珩磨,開始時由於孔壁粗糙,油石與孔(kǒng)壁接觸麵積很小,接觸壓力大,孔壁的凸出部分很快被磨去。而(ér)油石表麵因接觸壓力大,加上切屑對油石粘結(jié)劑(jì)的磨耗(hào),使磨粒與粘(zhān)結劑的結合強度下降,因而有的磨粒在切削壓力的作用下自行脫落,油石麵即露(lù)出新磨粒,此即油石自銳(ruì)。


第二階段是破碎切削階段,隨著珩磨的進行,孔(kǒng)表(biǎo)麵越來越光,與油(yóu)石接(jiē)觸麵積越來越大,單位麵(miàn)積的接觸壓力下降,切削效率降低。同時(shí)切下的切屑小(xiǎo)而(ér)細,這些切(qiē)屑(xiè)對(duì)粘結劑的磨耗(hào)也很小。

因此,油石(shí)磨粒脫落很少,此時磨削不是靠新磨粒,而是由磨粒尖端切削。因而磨(mó)粒(lì)尖端負荷很大,磨粒易破裂、崩碎而(ér)形成新的切削刃。

第三階段為堵塞切削階段,繼續珩磨時油石和孔表麵的(de)接觸麵積越來越大,極細的切屑堆積於油石與(yǔ)孔壁之間不易(yì)排(pái)除,造成油石堵塞,變得很光滑。因此油石切削能力極低,相當於拋光。若繼續珩(héng)磨(mó),油石堵塞嚴重而產生粘結性堵塞時,油石完全失去切削能力並嚴重發熱,孔的(de)精度和表麵粗糙(cāo)度均會受到影響。此時應(yīng)盡快結束珩(héng)磨。

定量進給珩磨


定量進給珩磨時,進給機構以恒定(dìng)的速度擴張進給,使(shǐ)磨粒強(qiáng)製性地切入工件。因此珩磨(mó)過程隻存在脫落切削和破碎切削,不可能產生堵(dǔ)塞切削現象。

因為當油石產生堵塞(sāi)切削力下降時,進給量大於實際磨削量,此時珩磨(mó)壓力增高,從而使磨粒脫落(luò)、破(pò)碎,切削作用增強。

用此種方法珩磨時,為了提高孔精度和表(biǎo)麵(miàn)粗糙度,最後可用不進給珩磨一定時間。

定(dìng)壓--定(dìng)量進給(gěi)珩磨


開始時(shí)以(yǐ)定壓進給(gěi)珩磨,當油石進入堵塞切削階段時,轉換為定量進給珩磨,以提高效率。最後可用不進(jìn)給珩磨,提高孔的(de)精度和(hé)表麵粗(cū)糙度。



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