拋光機的拋（pāo）光速（sù）率低（dī）解（jiě）決這個矛（máo）盾的最（zuì）好的辦法就是把拋光分（fèn）為兩個階段進（jìn）行。

　　粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應具有最大的拋（pāo）光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應當盡可能小;其次是精拋（pāo）(或稱終拋)，其（qí）目的是去除粗（cū）拋產生（shēng）的表層損傷，使拋光損傷減到最小。拋光機（jī）拋光（guāng）時，試樣磨麵與拋光盤應絕對（duì）平行並均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而（ér）產生新磨痕。

　　同時，還（hái）應使試樣（yàng）自轉並沿轉盤半徑方向來（lái）回移（yí）動（dòng），以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織（zhī）物保持一定濕度。濕度太大會減弱拋光的磨痕作（zuò）用，使試樣（yàng）中（zhōng）硬相（xiàng）呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜（zá）物及鑄鐵中（zhōng）石墨相產生“曳尾”現象;濕度太小（xiǎo）時，由於摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作用減小（xiǎo），磨麵失去光澤，甚至出現黑斑，輕合金則會拋傷表麵。

　　當然，我們為了達到粗拋的目（mù）的，要求轉盤轉速較低，最好不要超過600r/min;拋（pāo）光時間應當（dāng）比去掉（diào）劃痕所需的時間長些，因為還要去（qù）掉變形層。粗拋後磨麵光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下（xià）觀察（chá）有均勻細致的磨痕，有待精拋消除。